聚焦离子束与双束型聚焦离子束(FIB and Dual-beam FIB)

 1  聚焦离子束与双束型聚焦离子束(FIB and Dual-beam FIB)

  聚焦离子束（Focused Ion beam，简称FIB）是将液态金属(Ga)离子源产生的离子束经过离子枪加速，聚集

后照射于样品表面产生二次电子信号取得电子像，或用强电流离子束对表面原子进行剥离，以完成微、纳米

级表面形貌加工，通常是以物理溅射的方式搭配化学气体反应，有选择性的剥除金额氧化硅层或沉积金属层。

近年来发展起来的聚焦离子束技术（FIB）利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合扫描电镜（SEM）

或TEM等高倍数电子显微镜实时观察，成为了纳米级分析、制造的主要方法。

2  主要的检测项目

  - IC芯片电路修改

  - 截面分析

  - 定点切割

  - 半导体异常分析

  - TEM试片制样

  - 晶相特性观察分析